Huella
Profundice en los temas de investigación de 'Optimal control in chemical engineering: Past, present and future'. En conjunto forman una huella única.- Clasificar por
- Ponderación
- Alfabéticamente
Optimal control in chemical engineering: Past, present and future
Eduardo Nolasco*, Vassilios S. Vassiliadis, Walter Kähm, Sai Darshan Adloor, Riham Al Ismaili, Raúl Conejeros, Thomas Espaas, Nishanthi Gangadharan, Vasileios Mappas, Felipe Scott, Qianyue Zhang
*Autor correspondiente de este trabajo
Producción científica: Contribución a una revista › Artículo › revisión exhaustiva
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Citas
(Scopus)